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內(nèi)孔拋光-不改變公差使內(nèi)孔內(nèi)壁降低粗糙度

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編輯時(shí)間: 2021-08-18 13:52

這是需要內(nèi)壁拋光的一共工件,需要降低內(nèi)孔粗糙度,提升光潔度。需要說明的是,光潔度與光亮度并不是一個(gè)概念。光亮度是肉眼看起來的亮度,很多不銹鋼產(chǎn)品鍍鋅就是為了光亮度,但光潔度是指工件表面粗糙度的多少。有時(shí)候很多工件看起來未必很亮,但光潔度很高,是因?yàn)樗拇植诙鹊汀?/span>

 

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磨粒流內(nèi)孔拋光

 

降低內(nèi)孔內(nèi)壁粗糙度最有效的方法是磨粒流拋光工藝,可以有效提升工件光潔度3-5個(gè)檔次,并且對工件原始公差影響極小,通常在3個(gè)μ左右。磨粒流工藝拋光內(nèi)孔有3大優(yōu)點(diǎn):
1、可以深入交叉孔、彎曲孔、異型孔,不受孔形狀影響;
2、拋光效果極為均勻,且流向具有一致性;
3、拋光精度高,公差損失?。?/span>

我們通過一個(gè)示意圖,來看下該工件是如何完成內(nèi)孔內(nèi)壁拋光的:

 

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